西瓜如何抢早栽培？直播西瓜地膜覆盖暖坑栽培新技术

【导读】西瓜如何抢早栽培?采用地膜覆盖暖坑栽培新技术是获得早熟、高产的重要途径，该方剂有三个优点，一是提高地温，改善幼苗生长的小气候;二是比直播提前播种10～15天;三是早成熟，提早上市，效益显著。接下来瓜田先生就来具体说说直播西瓜地膜覆盖暖坑栽培新技术。

一、暖坑的作法

1、挖播种坑

在整好的播种垄上，按照株距挖种坑，坑深15～18cm，往坑内施入发酵好的有机肥0.5～1.0公斤，然后与土壤拌均匀，作成深10～12cm、宽15～18cm的浅坑。

2、播种覆土

在坑内浇足底水，等水渗完后播2～3粒已浸过的或催芽的种子，播种后覆盖湿润细土2～3cm。

3、覆膜

播完后立即盖上地膜，地膜要平、直、紧的盖在垄上，每个播种坑就形成单个地下温室。

二、品种选择

采用此法可提早成熟，因此既可以采用早熟品种，也可采用中晚熟品种。

三、适期播种

适期播期是比一般地膜覆盖提早10～15天，即在终霜前10～15天播种为适期，当然具体的还应结合当地气候条件而定。

四、破膜放苗

待晚霜已过、气温稳定升高，及时破膜放苗，把已有2-4片真叶的秧苗从暖坑拿出膜外，用手将地下坑稍整平，用湿土把根茎部与膜口盖严压实，让瓜苗在露天生长，根系仍在地膜保护下生长。

五、防低温冻苗

早春气温低，播种后要注意天气变化，做好预防低温冷害和冻害的措施。